上海新阳(300236)今日公告，由上海芯刻微材料技术有限责任公司委托盛吉盛（宁波）半导体材料有限公司代理投标，成功中标，购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机一台，该设备可用于研发分辨率达28nm的高端光刻胶。
3月11日，芯刻微公司向盛吉盛支付10%首期货款购入该光刻机，剩余90%六个月内付清。后续公司将启动设备的运输及相关安装调试等工作。
上海新阳表示，集成电路制造用ArF湿法光刻胶产品技术要求高、投资需求大，公司为加速集成电路制造用高端光刻胶全品类的国产化进程，减少上市公司业绩压力，通过参股子公司芯刻微进行Ar湿法光刻胶的研发，并与协议各方承诺未来通过向上市公司进行股权转让或技术转让等方式避免可能的同业竞争。
去年8月份，上海新阳与芯刻微、上海超成材料科技有限公司签署了《增资及股权转让协议》。增资及股权转让完成后，上海新阳持有芯刻微 38%的股权，超成科技持有芯刻微62%的股权，芯刻微公司进行ArF湿法光刻胶的研发。
上海新阳作为国内集成电路制造关键工艺材料供应商，自立项进行光刻胶项目研发以来，将突破集成电路高端光刻胶国外垄断，实现集成电路高端光刻胶材料的国产化作为发展目标，在ArF干法、KrF厚膜及I线光刻胶方面已有技术与产品的突破。
通过子公司芯刻微开展的ArF湿法光刻胶项目研发也已引进了核心技术专家团队，为ArF湿法光刻胶项目的开发提供了技术保障，现公司采购的ASML浸没式光刻机设备是对公司ArF湿法光刻胶技术先进性的设备保障，对加快公司集成电路制造用光刻胶产品研发项目进度有积极影响，有利于进一步提升公司光刻胶产品的核心竞争力，加速落实公司发展战略。
上海新阳表示，光刻胶产品在集成电路材料中技术难度大，质量要求最高，开发周期长， 且核心技术及原材料几乎被国外厂商所垄断。因此，存在着研发失败和研发计划滞后的风险。
这次购买的二手设备，主要用于Ar湿法光刻胶研发，此前采购设备用于干法光刻胶的研发。
1月5日，上海新阳公告称，自立项开发193nm ArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来，根据项目进度，计划安排购买了ASML-1400光刻机等核心设备。上周， 上海新阳曾发布公告，公司自立项开发193nm ArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来，安排购买了ASML-1400光刻机等核心设备，设备已进入北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司的场地。
近期不少上市公司都在购买光刻机。2021年1月19日晚，晶瑞股份公告称，经公司多方协商、积极运作，顺利购得ASML XT 1900 Gi型光刻机一台。3月3日晚，中芯国际发布公告称，2021年2月1日，其与光刻机设备大厂阿斯麦（ASML）签订了批量设备采购协议，协议的期限从原来的2018年1月1日至2020年12月31日，延长为从2018年1月1日至2021年12月31日。根据此批量采购协议，订单总金额约12亿美元。此外英诺赛科今年也公布购入光刻机设备。
