今日，这家公司因为买了一台二手光刻机大涨20%。同时，以半导体为代表的的科技股全线反弹。
7523万购入二手光刻机，晶瑞股份今日大涨20%
9月29日，晶瑞股份早间公告，公司为开展集成电路制造用高端光刻胶研发项目，拟通过Singtest Technology PTE. LTD.进口韩国SK Hynix的ASML光刻机设备，总价款为1102.5万美元，按照当前汇率，约合人民币7523万元。
受该消息影响，晶瑞股份早盘高开后拉升涨停，股价上涨19.99%，截至收盘报收42.86元/股，总市值为80.6亿元。
晶瑞转债早间也一度上涨超20%，并触及相关临停阈值停牌，复牌后小幅回落，截至收盘，晶瑞转债上涨15.19%，报收263.2元，转股溢价率为13.79%。
A股光刻胶概念公司纷纷大涨
据悉，晶瑞股份是一家生产销售微电子业用超纯化学材料和其他精细化工产品的上市企业，主要产品包括超净高纯试剂、光刻胶、锂电池材料等，广泛应用于超大规模集成电路、LED、TFT-LCD面板制造过程、太阳能硅片的蚀刻与清洗。根据2020年中报，今年上半年实现营收4.29亿元，同比增长14.37%，其中，光刻胶营业收入4307.3万元，同比增长21.48%。
有媒体报道称，晶瑞股份方面相关人士表示，现在光刻机设备并不好买，公司并不是直接购买ASML的光刻机设备，而是通过代理商购买存储器芯片厂商SK海力士的一台ASML二手光刻机设备。其购买的光刻机类型是ASML的1900型号的光刻机。根据公开报道，ASML的1900型号浸没式光刻机在2007年7月量产发货，可以助力客户将芯片量产制造能力扩展到36.5nm节点。
公司方面称，本次交易对公司的影响主要为：
1、本次合同的顺利履行可以保障集成电路制造用高端光刻胶研发项目关键设备的技术先进性和设备如期到位并投产，对加快项目进度有积极影响。本次交易有利于进一步提升公司光刻胶产品的核心竞争力，有助于落实公司发展战略，提高公司抗风险能力和可持续发展能力。
2、本次合同对公司业务独立性无重大影响。
另外，晶瑞股份发布公告称，拟发行不超5.5亿元可转债，用于集成电路制造用高端光刻胶研发项目、阳恒化工年产9万吨超大规模集成电路用半导体级高纯硫酸技改项目、补充流动资金或偿还银行贷款。
今日，晶瑞股份的大涨也带动了A股其他光刻胶概念股，飞凯材料、扬帆新材、广信材料、赛微电子等均涨超5%。
光刻机国产替代加速进行中
方正证券研报表示，光刻机作为前道工艺七大设备之首（光刻机、刻蚀机、镀膜设备、量测设备、清洗机、离子注入机、其他设备），价值含量极大，在制造设备投资额中单项占比高达23%，技术要求极高，涉及精密光学、精密运动、高精度环境控制等多项先进技术。光刻机是人类文明的智慧结晶，被誉为半导体工业皇冠上的明珠。目前全球前道光刻机被ASML、尼康、佳能完全垄断,CR3（行业前三家企业的市场份额）高达99%。数据显示，2019年全球前道制造光刻机出货约360台，其中ASML出货229台，占比64%。ASML一家独占鳌头，目前光刻机行业已经成为一个高度垄断的行业。如果没有特别原因，这一格局在未来的时间里都很难发生变化。
国产方面，上海微电子装备(SMEE) 作为光刻机行业后起之秀，技术已从量产90nm突破到28nm工艺，但与ASML 5nm的技术水平仍有差距，暂时只能提供低端光刻设备。
2018年，中芯国际向芯片机器制造商ASML发出了第一张订单，订购了一台最新的EUV（极紫外线）技术光刻机，机器价格为1.2亿欧元，于2019年交货。但目前由于种种阻碍，ASML迟迟未向中芯国际交货。
目前，北京科华是国内唯一拥有荷兰ASML光刻机的已生产光刻胶并供货的光刻胶公司。
今年4月，上海新阳披露，用于ArF（干式）干法光刻胶研发的即用于检测曝光数据的光刻机（型号：ASML-1400，二手机台）已完成境外采购，目前在运输过程中，尚未到货，存在项目研发计划滞后的风险。
另外，南大光电在今年半年报披露，公司正在自主研发和产业化的193nm光刻胶项目，已获得国家02专项“193nm光刻胶及配套材料关键技术开发项目”和“ArF光刻胶开发和产业化项目”的正式立项。项目基础建设按计划进行；安装完成一条193nm光刻胶生产线，用于产品检测的光刻机也已完成安装，目前产线和光刻机均处于调试阶段；公司同时自主研发制备光刻胶用的高纯原材料，已研制出的光刻胶产品正在进行客户评估工作。
9月16日，国新办就中国科学院“率先行动”计划第一阶段实施进展情况举行发布会。会上，中国科学院院长白春礼表示，未来十年，会针对一些“卡脖子”的关键问题做部署，“率先行动”计划第二阶段要把 “卡脖子”的清单变成科研任务清单进行布局，比如航空轮胎、轴承钢、光刻机等，集中全院力量聚焦国家最关注的重大领域攻关。
方正证券研报指出，实现光刻机的国产替代并不是某一企业能够单独完成的，需要光刻产业链的顶尖企业相互配合。光刻产业链可拆分为两个部分，一是光刻机核心组件，包括光源、镜头、双工作台、浸没系统等关键子系统，二是光刻配套设施，包括光刻胶、光掩模版、涂胶显影设备等。